設(shè)計原理
在納米領(lǐng)域的納米材料分散,涉及到三大要素:
研磨能力的精確傳導(dǎo)及分布----研磨介質(zhì)越小越利于控制
傳統(tǒng)的砂磨機利用篩網(wǎng)或是大小分散盤之間形成的間隙來分離介質(zhì)與液體,這就決定了不能使用0.015~0.1之間的鋯球,也就限制了很多材料不能被分散到真正的納米級,材料的納米特性就顯現(xiàn)不出來。
研磨介質(zhì)的損耗------研磨時合理的速度及分布方式是關(guān)鍵
傳統(tǒng)的水平懸臂式結(jié)構(gòu)決定了研磨介質(zhì)在整個研磨過程中要么貼著腔體做離心運動,要么在腔體三分之二處做類同于攪拌磨得低效拋沖擊運動。 同時,以前的立式砂磨機的設(shè)計限制了能量在整個腔體里的精確傳遞以及均勻分布。
研磨時產(chǎn)生的熱必須被控制---材料在分散時化學(xué)勢能會轉(zhuǎn)化成熱能,在納米分散時尤為顯著
顆粒被分散時,會釋放出大量的熱,這也是研磨有效的一定表現(xiàn),但更多是由于介質(zhì)的額外無用功所產(chǎn)生的,本設(shè)備合理的避免了這個問題。